GRD吸附式乾燥機

產品特色

• 台灣唯一零件保固2年的吸附式乾燥機~註3
• 台灣唯一吸附劑保固2年的吸附式乾燥機~註2
• 吸附塔專用筒狀不鏽鋼氣流擴散器
• 20年生產製造經驗+化工背景理論結合
• 吸附塔採用耐高溫碳鋼板材質，具二壓容器檢驗標準
• 擴散式消音器
• 特殊開發的專用控制閥超過1，000，000次的運轉壽命
• 美國INTEL公司開發的8x51單晶片或者三菱plc系列控制器，具強大穩定的功能，可另購露點感測器，作為經濟風量控制使用
• 低壓力損失(0.18㎏/c㎡以下)
• 10~18%的再生風量(壓力露點-40~070℃)~註1
• 無任何需移動的館建或需求特殊工具維修
• 多樣選擇性的控制箱及零件

獲得功效

• 降低重覆購置成本！實際運轉機台超過5年無任何損壞！
• 無需頻繁維修！
• 經耐久性，高壓氣體流動不破裂，測底達成氣流分布均勻！
• 可信任的耐久性+低露點實用性！
• 防止頻繁的昇壓及釋壓狀態下吸附塔變質破裂產生工安意外！
• 耐瞬間高壓沖擊消音器降低保養費用！
• 可靠性的致動器，高信任性，無須擔心作動失敗！
• 確實的保證和非常可信任的品質，適用於嚴苛的工業操作環境，達到預定之露點溫度後有效控制吸附/讚聲交替頻率減低再生耗能！
• 減少能源損失，增加可利用的空氣壓力！
• 減少風量損失降低能源損害！
• 易於及時維修及日常保養！
• 可選配NEMA4/NENA4X/IP55/IP65/EELLCT62國際認證等級！

系統流程

潮濕的入口壓縮空氣，首先進入前置過濾器，在順序經由入氣控制閥(1)進入乾燥塔(Tower A)，水蒸汽在此吸附過程中從氣流中移除吸附於吸附劑內，乾燥器劉崇乾燥塔排出流向出口逆止閥（2）然後直接流出至後部過濾器並於過濾器濾除吸附劑粉塵。

同時再生塔（Tower B），由再生閥（3）吐出低壓乾燥氣流向下順流至再生塔（Tower B）在流向在生控制閥（4），排出到大氣。如此一來，再生塔（Tower B）中的吸附劑經這樣非常乾燥及低壓的氣流沖洗，即可將原本吸附劑中的水器藉此氣流排出。

在一預先設定時間後，這控制晶片會關閉這再生控制閥（4），此時乾躁氣體會有一部分氣流進入（Tower B）緩緩建立壓力，最後達到與入口壓力鄉等狀況，此時入口控制閥（1）隨即關閉並且同時打開入口控制閥（5）將潮濕空氣導入（Tower B）同時間打開再生控制閥（6）。這樣一來氣流導向智逆止閥（7）制使用單位，同時間(Tower A)轉變成再生塔並開始再生，在生氣流此時經在生閥（3）在流向在生控制閥（6）排出至大氣。如此週而復始的運轉源源不絕的產生乾燥空氣。

安全的氣源系統設計

在目前台灣製造無熱型吸附式乾燥機廠商，大多採用ON/OFF雙動作電磁閥及逆止閥作為其入氣控制閥及單晶片控制器如左下流程圖所示，此設計在小型吸附式乾燥機系統及後端無須考慮安全供氣系統上，不會有任何問題產生。但是如在大型吸附式乾燥機系統採用如此設計就可能會產生安全操作問題，本公司設計人員經十多年設計化工機械經驗，已將大型吸附式（GRD-400以上）乾燥機之入氣控制閥修改為三通控制閥另外在配電盤控制上採用PLC可程式控制器並可選配觸摩控制的人機螢幕，如此一來可避免因入/出氣控制閥誤動作或者損壞時，造成需求氣源之後端現場或者機器因瞬間氣源斷絕產生安全操作的問題即可在購置發現有其他功能(如露點控制及顯示/經濟在生風量控制/入出氣壓力及溫度和流量檢知即顯示/RS485通訊設定)，需求改變時可隨時更改程式及再附加控制元件改變其原始訂購時操作方式。

二十年以上的製造經驗

在空氣流速上，我們不斷的測試及實驗，得知在吸附塔內流速控制上絕對需要於3~3m/min範圍內，配合實際應用的上千實例，並經詳細計算後加強吸附塔底部的氣流擴散器，並在場內填充吸附劑上有更新的裝填方式，使氣流能徹底通過吸附層之橫截面提高每單位吸附劑的吸附能力，且能防止氣流隧道效應的產生。獨有配方的分子篩不同於其他吸附劑在於其擁有無數均勻的細孔直徑使其比表面積非常之大，因其細孔均勻的關係所以使其能夠於相對溼度較低(水分濃度低時)時其吸附能力大於其他吸附劑，應用這種特性可使壓縮空氣中水氣減少達到低露點的狀況。

設計標準：

工作壓力7kgf/cm2 ,入口空氣溫度30℃，空氣出口壓力露點＜-40~-70℃
電源1Phase,220,50/60Hz,在生風量10~18％。
註1：入口空氣需經冷凍乾燥基欲處理狀態下
註2：使用本公司精密過濾器遇處理及保養更換耗材狀態下
註3：使用狀況在額定設計內
＊特殊高壓空氣及特殊氣體乾燥可訂購。